la Xina ja té un prototip propi d'una font de llum VE per a fabricar xips d'avantguarda

Xinesa està recorrent amb pas ferm el camí que presumiblement conclourà amb el desenvolupament dels seus propis equips de fotolitografia d'ultraviolada extrem (VE). Aquestes màquines són necessàries per a fabricar circuits integrats d'avantguarda amb un cost i un rendiment per oblia competitius, i les sancions dels EUA i Països Baixos impedeixen a ASML vendre-les-hi als seus clients xinesos. El Govern de Xi Jinping vol tenir les seves pròpies màquines VE abans que expiri aquesta dècada , però posar a punt aquests equips és extraordinàriament difícil.

Un dels desafiaments que és imprescindible superar requereix dissenyar i fabricar una font de llum ultraviolada extrema capaç de lliurar radiació amb una longitud d'ona de 13,5 nm d'una forma completament estable. Aquesta llum és la responsable de traslladar el patró geomètric que descriu la lògica dels xips des de la màscara fins a l'oblia, però produir-la amb la precisió adequada no és per a res senzill, com comprovarem unes línies més a baix en aquest mateix article.

Des de fa més d'un any sabem que Huawei té un prototip de màquina VE operatiu dins d'un laboratori d'alta seguretat en Shenzhen, encara que encara no fabrica circuits integrats funcionals. No obstant això, aquesta no és l'única basa de la Xina.